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전기전자공학과 김시준 교수, 「0.5V 미만 동작 차세대 강유전체 기술」 개발

초고전계 활용 초박막 HZO 성능 향상 … 「IEEE IEDM 2026」서 연구성과 발표 예정

2026.09.18 조회 139

강원대학교(총장 정재연) 춘천캠퍼스(캠퍼스총장 유기억) IT대학 전기전자공학과 김시준 교수 연구팀이 초고전계(Ultra-High Electric Field, UHEF)를 활용한 차세대 강유전체 소자 연구성과를 오는 12월 미국 샌프란시스코에서 열리는 「IEEE International Electron Devices Meeting(IEDM) 2026」에서 발표한다.

 

이번 연구논문은 「Ultra-High Electric Field (UHEF) Enhanced Ferroelectric Crystallization of Scaled HZO Film for High Psw (>50 µC/cm²) and Low Voltage (<0.5 V)」로, 「IEEE IEDM 2026」 발표 논문으로 채택됐다.

 

IEEE IEDM은 반도체 소자와 공정 기술 분야의 주요 국제학술대회로, 세계 각국 대학과 연구기관, 글로벌 반도체 기업 연구자들이 차세대 반도체 소자·소재, 메모리, 첨단 공정 및 집적기술 분야의 연구성과를 발표하는 자리다.

 

이번 연구는 미국 The University of Texas at Dallas, Brookhaven National Laboratory, 국민대학교, SK하이닉스 연구팀과의 국제공동연구를 통해 수행됐으며, 연구팀은 초고전계를 활용해 초박막 Hf₀.₅Zr₀.₅O₂(HZO)의 강유전체 결정화와 소자 특성을 향상시키는 방법을 제시했다.

 

이를 통해, 50 µC/cm² 이상의 높은 스위칭 분극(Psw)과 0.5V 미만의 저전압 동작을 구현했으며, HZO 기반 저전력·고성능 강유전체 소자의 초미세화 연구에 활용할 수 있는 기술적 기반을 제시했다.

 

김시준 교수 연구팀은 이번 연구를 바탕으로 차세대 강유전체 소자의 성능 향상과 저전력 반도체 소자 구현을 위한 후속 연구를 이어갈 계획이다.

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